更新時(shí)間:2026-07-31
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半導(dǎo)體制造是5G、新能源汽車、人工智能等戰(zhàn)略性產(chǎn)業(yè)的核心基礎(chǔ),工藝精密、管控嚴(yán)苛,對(duì)工藝介質(zhì)純度、晶圓品質(zhì)、環(huán)保排放有著嚴(yán)苛要求。雪迪龍半導(dǎo)體行業(yè)智慧監(jiān)測(cè)解決方案搭建高精度、智能化監(jiān)測(cè)體系,解決高純介質(zhì)雜質(zhì)管控嚴(yán)、晶圓微觀缺陷難排查、生產(chǎn)排污監(jiān)管難等問(wèn)題。




超高純大宗氣體痕量雜質(zhì)檢測(cè)
電子級(jí)超高純大宗氣體是芯片制程關(guān)鍵介質(zhì),傲領(lǐng)Orthopure系列色譜儀覆蓋超高純氣體雜質(zhì)檢測(cè)需求,采用HDID、FID檢測(cè)器精準(zhǔn)檢測(cè)H?、N?、Ar、CO、CO?、CH?、NMHC等ppb級(jí)痕量雜質(zhì)氣體,把控超高純氣體純度。
用于連續(xù)品質(zhì)控制(CQC)的雜質(zhì)測(cè)量

傲領(lǐng)Orthopure系列色譜儀
半導(dǎo)體摻雜與缺陷分析
芯片刻蝕工藝使用Cl?、HBr、He、O?等工藝氣體,易造成晶圓表面雜質(zhì)殘留和微觀缺陷等問(wèn)題。飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀(TOF-SIMS)作為半導(dǎo)體摻雜和缺陷分析的有效技術(shù)手段,可為半導(dǎo)體工藝優(yōu)化提供科學(xué)的數(shù)據(jù)支撐。
半導(dǎo)體硅晶圓缺陷分析

飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀
大氣污染物排放監(jiān)測(cè)
芯片光刻、刻蝕、?薄膜沉積、清洗等工藝會(huì)產(chǎn)生酸性、堿性、有機(jī)類廢氣污染物。雪迪龍智能煙氣在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng),可對(duì)酸性廢氣排口、堿性廢氣排口、有機(jī)廢氣排口和廢氣焚燒排口實(shí)現(xiàn)廢氣排放精細(xì)化管控。
酸性氣體監(jiān)測(cè)-NOx、HF、HCl



原位激光氣體分析儀

原位高溫氣體在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)
有機(jī)氣體監(jiān)測(cè)-揮發(fā)性有機(jī)物(NMHC)、苯系物

揮發(fā)性有機(jī)物在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)
顆粒物監(jiān)測(cè)

抽取式激光前散射粉塵儀

原位式激光后散射粉塵儀
水污染物排放監(jiān)測(cè)
雪迪龍水質(zhì)在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)廢水排放主動(dòng)管控,依據(jù)《排污單位自行監(jiān)測(cè)技術(shù)指南 電子工業(yè)》(HJ 1253-2022)要求,廢水總排口需自動(dòng)監(jiān)測(cè)流量、pH值、化學(xué)需氧量、氨氮核心指標(biāo);半導(dǎo)體液晶面板制造(有表面涂裝工序的)重點(diǎn)排污單位,增設(shè)總磷自動(dòng)監(jiān)測(cè)。
廢水排放監(jiān)測(cè)-pH值、CODCr、氨氮、總磷、總氮、重金屬等

污染源水質(zhì)在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)
雪迪龍半導(dǎo)體行業(yè)智慧監(jiān)測(cè)解決方案,兼顧生產(chǎn)品質(zhì)和環(huán)保合規(guī)雙重保障,適配半導(dǎo)體晶圓制造、芯片封測(cè)、液晶面板生產(chǎn)等各類電子制造企業(yè)的智能化監(jiān)測(cè)需求。